俄罗斯研制150纳米光刻机 性能相当于20年前奔腾4水平

全链网报道，7月22日，据快科技消息，俄罗斯绿城纳米技术中心（ZNTC）已成功研制出一台电子束光刻机原型机，其技术指标锁定在150纳米。该项目被列为俄罗斯国家级科技发展规划下的重点任务，代号为Progress ELL 150。 ### 设备用途与技术进展 该设备主要用于制造光掩模，同时也能在不借助掩模的情况下，直接在基板上绘制电路图案。150纳米制程大致相当于20年前英特尔奔腾4处理器的性能水平。2025年，ZNTC曾展示过一台350纳米分辨率的同类设备，目前他们已向90纳米和130纳米技术节点推进。 ### 行业专家分析应用前景 有行业专家分析指出，此类设备更适合航天、国防等领域的专用芯片小批量生产，不太可能用于消费级芯片的大规模制造。