国产光刻胶再突破：DUV浸没式ArF打入头部晶圆厂

国产光刻胶实现关键突破：鼎龙股份浸没式ArF产品打入头部晶圆厂供应链

近期，国内先进工艺领域接连传来突破性进展。除光刻机这一“老大难”问题外，光刻胶领域的国产替代也取得重要进展。据最新消息，国内企业鼎龙股份在该赛道上成功突围，其高端光刻胶产品已直接进入头部晶圆厂的供应体系。

鼎龙股份本周发布公告，披露了核心信息：其KrF/ArF高端晶圆光刻胶产线自2025年3月20日投产后，已向两家头部晶圆厂交付数百加仑产品，且均在客户量产线上通过验证。更值得关注的是，这两家客户近期又追加了近1000加仑的订单。

关键数据：8款光刻胶获批量订单，多款产品加速转化

截至目前，鼎龙已有8款高端晶圆光刻胶获得国内主流晶圆厂的批量订单。其中ArF和KrF光刻胶各4款，相较2025年一季度末增加5款。此外，还有多款产品预计在2025年内完成订单转化。公司方面表示，2026年上半年的产品交付量预计将显著提升。

测试进展：近30款产品送样验证，覆盖高端光刻胶品类

在测试进度方面，鼎龙目前布局了40多款高端晶圆光刻胶，其中近30款已送样给客户进行验证测试，超过10款进入加仑样测试阶段。这一节奏和覆盖面在国内厂商中属于较快水平。

含金量解析：浸没式ArF光刻胶是关键突破

那么，此次公告的“含金量”到底体现在哪里？此前国内虽有四五家公司宣布过ArF光刻胶出样，但大多表述含糊，很少透露具体技术级别。鼎龙本次特别提及“浸没式ArF”这一关键词，意义重大。

技术差异：干式与浸没式ArF差距悬殊

光刻胶作为半导体制造的核心材料，不同产品之间的技术差距较大。最高端的EUV光刻胶国内仍在攻关中；主流的ArF光刻胶对应193nm波长的DUV光刻机。同样是ArF，干式与浸没式存在“天壤之别”：干式ArF一般用于28nm及以上工艺，而浸没式ArF（有时缩写为ArFi）可支持14nm乃至7nm节点，技术难度大幅提升。

市场价值：高端光刻胶价格高昂，批量订单意义重大

根据德邦证券2022年研报，ArF光刻胶价格约1000万元/吨。近两年半导体材料普遍涨价，实际价格更高。因此，在高端级别获得头部客户批量订单，含金量不言而喻。

行业格局：国内仅少数企业披露浸没式ArF供货信息

此次公告中最具分量的信息，是“浸没式ArF光刻胶”供货国内两大头部晶圆厂。在此之前，国内仅有南大光电在2024年公开宣布向晶圆厂出样浸没式ArF光刻胶，其他厂商大多仅含糊提及ArF或KrF。至于更详细的技术指标，一方面出于产业保密需要，另一方面对资本市场而言，这种“恰到好处的模糊感”也保留了想象空间。